La nano impresión se hace más grande

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Una técnica de impresión capaz de alcanzar detalles de sólo décimas de nanómetro está, por fin, a punto de salir del laboratorio. El nuevo sistema litografía por nanoimpresión rollo-a-rollo se podría utilizar para producir de forma barata y eficiente, además de en grandes cantidades, películas ópticas con patrones a escala nanométrica con las que mejorar el rendimiento de las pantallas y las células solares.

La litografía por nanoimpresión utiliza la fuerza mecánica para impresionar un patrón a escala nanométrica y es capaz de conseguir características mucho más pequeñas que la litografía óptica, que está a punto de alcanzar su límite físico. La técnica fue desarrollada como herramienta para miniaturizar los circuitos integrados, y una serie de compañías, entre las que se incluye Molecular Imprints en Austin, Texas, la siguen desarrollando para esta aplicación.


Sin embargo, hasta ahora ha resultado difícil poder escalar la litografía por nanoimpresión de forma fiable. Para alcanzar la resolución necesaria para la impresión de transistores, por ejemplo, se necesita utilizar un sello plano de unos cuantos centímetros cuadrados y que se debe mover de forma repetida a lo largo de una superficie. Esto es algo que no resulta práctico a la hora de imprimir grandes áreas de película para muchas otras aplicaciones. “Las pantallas y las células solares requieren que la impresión se lleve a cabo sobre áreas mucho más grandes, para luego cortarlas en hojas,” afirma Jay Guo, profesor asociado de ingeniería eléctrica y ciencias informáticas en la Universidad de Michigan. “Lo tienes que poder llevar a cabo de forma continuada.”

Para solucionar este problema, Guo ha desarrollado un sello que se puede utilizar para la impresión rollo-a-rollo de grandes áreas. Su configuración utiliza un molde de polímero enrollado alrededor de un cilindro y que se utiliza para impresionar el patrón sobre un material que se coloca o bien encima de un soporte de cristal rígido o sobre uno de polímero. Para crear el componente final, el patrón se fija mediante el uso de una luz de flash o ultravioleta. El proceso, descrito en la publicación ACS Nano, se puede llevar a cabo de forma continuada a un ritmo de un metro por minuto, y Guo afirma que lo ha utilizado para imprimir características de hasta 50 nanómetros a lo largo de un área de 6 pulgadas de ancho (alrededor de 15 centímetros). Esa resolución no es lo suficientemente buena como para crear circuitos integrados, pero es adecuada para imprimir dispositivos ópticos tales como concentradores rejillas de luz.

Esta no es la primera vez que se explora la impresión rollo-a-rollo para su uso en la litografía por nanoimpresión. Sin embargo Yong Chen, profesor de ciencias de los materiales e ingeniería en la Universidad de California, en Los Angeles, afirma que el grupo de Michigan “ha hecho que este proceso sea mucho más fiable y con una menor densidad de defectos.”

Fuente: Technology Review

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